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【2h】

Fast Lithography Simulation under Focus Variations for OPC and Layout Optimizations

机译：OpC和布局优化的焦点变化下快速光刻仿真

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Peng Yua; David Z. Pana; Chris A. Macka;
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年度 2015
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1. Lithography parametric yield estimation model to predict layout pattern distortions with a reduced set of lithography simulations [J] . Sergio Gomez, Francesc Moll, Joan Mauricio Journal of microanolithography, MEMS, and MOEMS . 2014,第3期

机译：光刻参数化产量估算模型，可通过简化的光刻模拟集来预测布局图案变形
2. How to make lithography patterns print: the role of OPC and pattern layout [J] . Peter De Bisschop Advanced Optical Technologies . 2015,第4期

机译：如何制作光刻图案：OPC和图案布局的作用
3. Lithography simulator helps designers check integrity of OPC layouts [J] . Michael Santarini Electrical Design News . 2005,第13期

机译：光刻模拟器可帮助设计人员检查OPC布局的完整性
4. Fast Lithography Simulation under Focus Variations for OPC and Layout Optimizations [C] . Peng Yu, David Z. Pan, Chris A. Mack Design and Process Integration for Microelectronic Manufacturing IV . 2006

机译：用于OPC和布局优化的焦点变化下的快速光刻仿真
5. A Hybrid Modeling Approach Using Discrete Event Simulation and Layout Optimization for Healthcare Layout Planning Problems [D] . Lather, Jennifer I. 2019

机译：一种使用离散事件仿真和布局优化的混合建模方法，用于医疗布局规划问题
6. P01.077 Optimizing array layouts for glioblastoma therapy with tumor treating fields (TTFields) - Use of oblique array layouts surpass default left-right/anterior-posterior positions in a computer simulation model [O] . A R Korshoej, N Mikic, J H Sørensen, 2018

机译：P01.077使用肿瘤治疗场（TTFields）优化胶质母细胞瘤治疗的阵列布局-倾斜阵列布局的使用超过了计算机仿真模型中默认的左右/前后位置
7. FastYield: Variation-Aware, Layout-Driven Simultaneous Binding and Module Selection for Performance Yield Optimization [O] . Lucas Gregory, Cromar Scott A., Chen Deming 2009

机译：FastYield：变异感知，布局驱动的同步绑定和模块选择，实现性能优化

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